專利規(guī)避設計(Design Around)，又稱專利回避設計。規(guī)避設計的出發(fā)點是在法律層面上繞開已有專利權的保護范圍，避免潛在的法律風險，其核心在于技術方案的差異化設計。規(guī)避設計不僅是預防和應對專利侵權的重要手段，也是一種行之有效的研發(fā)手段以及專利挖掘的重要途徑。

　　通常，專利規(guī)避設計可遵循“簡化”和“替代”這兩項基本原則。簡化原則通過對在先專利的技術方案構成要件進行刪減，使得改型方案缺少其中一個或多個構件要件以避免專利侵權;替代原則則是通過改變在先方案中的一個或多個構成要件，使得改型方案中一個或多個技術特征與在先專利的技術特征不相同也不等同，從而避免專利侵權。

　　不同領域的專利規(guī)避設計，因其技術構成要素不同，改型的側重點也有所不同。針對機械或電子產(chǎn)品的規(guī)避設計，通常從零部件(例如：功能近似的不同元件、削減元件相應減少功能…)、組裝方式(固定式/可拆卸式組裝…)、連接關系(直接連接/間接連接…)、控制方法(控制條件、操作步驟)這幾個構成要件來考慮。

　　而材料、化學及醫(yī)藥領域的產(chǎn)品通常為特定組分的組合物或者化合物，其技術方案的構成要件包括產(chǎn)品的組成成分、組分之間的配比、以及產(chǎn)品在通常狀態(tài)下所呈現(xiàn)出的固態(tài)、液態(tài)或者氣態(tài)的形態(tài)，規(guī)避設計通常會考慮組分及其配比的不同，同時，也嘗試采用不同的產(chǎn)品形態(tài)，考慮不同的制備工藝。

　　外觀設計類產(chǎn)品多針對產(chǎn)品所呈現(xiàn)的形狀、色彩、圖案及其組合進行該改型，也可嘗試將現(xiàn)有設計應用于不同類別的產(chǎn)品。

　　針對規(guī)避設計進行專利挖掘的首要步驟是明確規(guī)避目的、確定規(guī)避主題，在此前提下進行針對性的專利檢索和技術分析，提出差異性的設計方案，經(jīng)過方案評估，最終得到規(guī)避設計方案和相應的專利申請。

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